🇯🇵 GIAPPONE SFIDA L’EGEMONIA EUV CON IL 10NM NANOIMPRINT 🇯🇵
Il Giappone ha appena segnato un punto pesantissimo nella corsa ai semiconduttori avanzati: Dai Nippon Printing (DNP) ha sviluppato un template di nanoimprint lithography (NIL) con linee da 10 nm, pensato per logiche di classe 1,4 nm. Invece di usare luce EUV, la tecnologia imprime fisicamente il pattern sul wafer, tagliando i consumi energetici fino a circa un decimo rispetto a EUV e ArF immersion.
Questo approccio può sostituire parte dei passaggi EUV, riducendo costi, complessità impiantistica e dipendenza dal monopolio ASML sulle scanner EUV.
Il target è chiaro: dare a foundry senza EUV un ingresso nell’élite dei nodi avanzati per smartphone, data center e memoria NAND.
DNP ha già avviato le valutazioni con i clienti e punta alla produzione di massa dei template NIL nel 2027, in parallelo ai nodi 1,4 nm previsti da TSMC e Samsung.
Se difettività, overlay e throughput reggeranno l’urto dell’high-volume manufacturing, NIL potrebbe diventare il “secondo binario” che alleggerisce colli di bottiglia e capex dell’EUV, accelerando la scalabilità globale dei chip avanzati.