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La Chine vient de faire un pas majeur vers la rupture de la domination occidentale dans la fabrication de puces avancées. Selon Reuters, un prototype de machine de lithographie EUV construit localement, l'outil le plus critique pour les semi-conducteurs de pointe, est actuellement en phase de test à Shenzhen. Jusqu'à présent, seule une entreprise au niveau mondial a maîtrisé cette technologie. Ce jalon est le résultat d'une poussée soutenue par l'État sur plusieurs années pour l'autonomie en matière de semi-conducteurs, souvent comparée à un moment de Projet Manhattan pour la Chine. Bien que le système n'ait pas encore produit de puces commerciales, les objectifs entre 2028 et 2030 signalent un plan à long terme pour éliminer l'influence des États-Unis de la chaîne d'approvisionnement en puces de la Chine.

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